氣相沉積按形式的基本原理，可分為化學氣相沉積（CVD）和物理氣相沉積（PVD）。氣相沉積在模具表面覆蓋一層厚度為0.5~10μm的過度族元素（Ti、V、Cr、W、Nb等）的碳、氮、氧、硼化合物或單一的金屬及非金屬涂層。
氣相沉積層具有很高的硬度、低的摩擦因數和自潤滑性能，抗磨粒磨損性能良好，并有很強的抗蝕能力和良好的抗大氣氧化能力，是一種很有前途的新型模具表面強化技術。
CVD是采用化學成分使方法使反應氣體在模具基材表面發生化學反應形成覆蓋層的方法，可獲得超硬內磨鍍層，是提高模具使用壽命的有效途徑。
將金屬、合金或化合物放在真空室中蒸發（或稱濺射），使這些氣相原子或分支在一定條件下在模具表面上沉淀的工藝稱物理氣相沉積（簡稱PVD）。物理氣相沉積可分為真空蒸鍍、陰極濺射鍍和離子鍍三類，具有處理溫度低、沉積速度快、無公害等特點，十分適合模具的表面強化，可大大提高模具的使用壽命。

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